39 EUV光刻机（4 / 8）

大。

C.蒙特卡姆（C.Montcalm），《极紫外线光刻多层反射涂层》（MultilayerRelectiveCoatingsforExtreme-UltravioletLithography），能源部科学技术信息办公室，1998年3月10日，https://www.osti.gov/servlets/purl/310916。《彼得·库兹博士访谈：“击中月球上高尔夫球”》（InterviewwithDr.PeterKurz:“HittingaGolfBallontheMoon”），《光子学世界》（WorldofPhotonics），https://world-of-photonics.com/en/newsroom/photonics-industryportal/photonics-interview/dr-peter-kuerz/。《蔡司——为明天微芯片开辟新天地》（ZEISS:BreakingNewGroundfortheMicrochipsofTomorrow），蔡司集团，YouTube视频，2019年8月2日，https://www.youtube.com/watch?v=XeDCrlxBtTw。蔡司面临主要挑战是EUV难以反射。13.5纳米波长EUV更接近X射线而不是可见光。与X射线样，许多材料吸收EUV，而不是反射EUV。蔡司开始开发由100层交替钼和硅制成反射镜，每层厚度为几纳米。劳伦斯·利弗莫尔国家实验室研究人员在1998年发表篇论文中确定这是目前最佳EUV反射镜。但是，制造这样个具有纳米级精度反射