文版为《深度调查:千亿芯片大骗局》——译者注。失败的不仅仅是省级实验。紫光最近在全球收购热潮后耗尽了现金,并拖欠了部分债券。一名中国z.府规划机构的*员公开感叹,中国的芯片行业“没有经验,没有技术,没有人才”,这是言过其实的。但很显然,中国在半导体项目上浪费了大量资金,这些项目要么显得不切实际,要么像武汉弘芯一样,是公然的欺诈。即使中国的“人造卫星时刻”激发了更多由国家支持的半导体项目,中国也不会因此走上技术独立的道路。
在这样一个拥有跨国供应链的行业中,技术独立一直是一个白日梦,美国也是如此。如今,美国仍然是世界上最大的半导体玩家。对于中国来说,从机械到软件,在供应链的许多部分缺乏竞争性企业,技术独立更为困难。为了实现技术完全独立,中国需要获得尖端的设计软件、设计能力、先进材料和制造技术等。毫无疑问,中国将在其中一些领域取得进展,但有些领域的成本太高,难以复制。
设想一下复制一台阿斯麦的EUV光刻机需要什么,这台机器花了近30年的时间来开发和商业化。EUV光刻机具有多个部件,这些部件本身构成了极其复杂的工程挑战。在EUV光刻机系统中,复制光源需要完美识别和组装457329个零件。一个单一的缺陷可能会导致严重的延迟或可靠性问题。即使已经获得了阿斯麦的设计规范,这种复杂的机器也不能像文件一样简单地复制和粘贴。即使有接触专业信息的机会,也需要一位熟悉科学的光学或激光博士。即使有这样的人才,可能仍然缺乏开发EUV光刻机的工程师们30年来积累的经验。
托比·斯特林,《英特尔为寻求芯片制造优势订购了3.4亿美元以上的阿斯麦系统》(IntelOrdersASMLSystemforWellOver$340mlninQuestforChipmakingEdge),路透社,2022年1月19日。也许在十年内,中国可以成功建造自己的EUV光刻机。如果成功的话,该项目将耗资数百亿美元。但是,当该设备准备就绪时,它将不再是最先进的设备,这必然是令人沮丧的。到那时,阿斯麦将推出一种新一代工具——高孔径EUV光刻机,计划于21世纪20年代中期推出,每台机器的成本为3亿美元,是第一代EUV光刻机的两倍。即使未来中国的EUV光刻机与阿斯麦目前的设备一样好,但考虑到美国将试图限制中国从其他国家获取部件的能力,中国芯