2015年，严涛南被问到，如果阿斯麦正在开发
新EUV光刻机不起作用，会发生什
。在过去25年里，严涛南
直致力于光刻技术前沿研究。1991年，严涛南刚从麻省理工学院毕业便被TI聘用，在那里维修GCA在破产前生产最后台光刻机。20世纪90年代末，当使用193纳米波长光深紫外（DUV）光刻机上线时，严涛南加入
台积电。近20年来，该行业直依靠这些工具来制造越来越小晶体管，使用系列光学技巧，比如通过水或多层掩模多次曝光，使193纳米光波能够形成尺寸小部分，这些技巧让摩尔定律得以延续。因为芯片行业在20世纪90年代末通过对3DFinFET早期研究已将晶体管从180纳米节点缩减。到2015年左右，这些研究成果已准备好进行大规模生产。
严涛南，《为大批量制造开发EUV光刻技术——个人旅程》（DevelopingEUVLithographyforHighVolumeManufacturing—APersonalJourney），《IEEE技术简报》（IEEETechnicalBriefs），多光学技巧可以帮助193纳米光雕刻出更小特征尺寸。每个新解决方案都会增加时间和成本。到2015年左右，解决方案会有些额外改进，但摩尔定律需要更好光刻机来雕刻更小图形。唯希望是，自20世纪90年代初以来直在开发但被严重推迟EUV光刻机，最终能够在商业规模上运行。还能有什选择？严涛南知道“没有B计划”。
张忠谋在半导体行业对EUV光刻机下赌注比其他任何人都大。台积电光刻团队在EUV光刻机是否适合大规模生产问题上存在分歧，但负责台积电研发蒋尚义坚信，EUV光刻机是唯前进之路。说话温和蒋尚义，因流制造技术而广受赞誉。蒋尚义出生于中国
请关闭浏览器阅读模式后查看本章节，否则可能部分章节内容会丢失。
